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CIF生產(chǎn)型等離子清洗機(jī) CIF 推出的中試生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級客 戶而設(shè)計的等離子體表面處理設(shè)備。配置豐富， 且真空腔體里可分層， 適合大多數(shù)生產(chǎn)場景清洗，活化、刻蝕等應(yīng)用。設(shè)備可在嚴(yán)苛環(huán)境下 穩(wěn)定運行，產(chǎn)品性能穩(wěn)定，樣品處理重復(fù)性、一致性好。

電感耦合等離子清洗機(jī) 7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面，自動控制監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài)，20 個配方程序，工藝數(shù)據(jù)可存儲追溯，PLC 控制整個清洗過程，手動、自動兩種工作模式。

等離子灰化儀又稱等離子有機(jī)質(zhì)去除儀用于煤與生物質(zhì)樣品的低溫灰化，SEM&TEM中有機(jī)樣品刻蝕，塑料品的表面處理以及有機(jī)材料的微觀灰化。

CIF Flash-Evac系列閃蒸成膜儀基于“快速溶劑揮發(fā)誘導(dǎo)成膜”原理研發(fā)生產(chǎn)的*薄膜制備設(shè)備，通過真空環(huán)境加速溶劑蒸發(fā)，驅(qū)動溶質(zhì)（如有機(jī)小分子、聚合物、金屬鹵化物等）快速自組裝形成均勻納米薄膜。設(shè)備具備智能控制、高效成膜與廣泛兼容等優(yōu)勢，廣泛應(yīng)用于鈣鈦礦太陽能電池、OLED、柔性電子與傳感等前沿領(lǐng)域。

CIF離子濺射儀是一款專為貴金屬及合金材料鍍膜研制的高精度設(shè)備，集*控制技術(shù)與人性化設(shè)計于一體，可實現(xiàn)精準(zhǔn)、高效且穩(wěn)定的濺射鍍膜工藝。廣泛適用于科研實驗與精密制造領(lǐng)域，為用戶提供高質(zhì)量、一致性高的鍍膜效果。

CIF推出全新一代 CPC-10系列實驗室型等離子體清洗設(shè)備， 改變傳統(tǒng)等離子體清洗設(shè)備設(shè)計理念。具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積， 使用成本低， 性價比高， 處理快速高效， 特別適合于大學(xué)， 科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn)。

CIF推出全新一代 CPC-G系列實驗室型等離子體清洗設(shè)備， 改變傳統(tǒng)等離子體清洗設(shè)備設(shè)計理念。CIF實驗室型等離子清洗機(jī)具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積， 使用成本低， 性價比高， 處理快速高效， 特別適合于大學(xué)， 科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn)。

CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設(shè)備，合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。 CIF實驗室型等離子清洗機(jī)CPC-F系列性能穩(wěn)定，操作簡單方便，易維護(hù)。